Французский исследовательский институт Leti поможет Rapidus освоить выпуск 1-нм чипов в Японии
Технологическая гонка за литографические нормы входит в решающую фазу: японский консорциум Rapidus, стремясь вернуть стране статус полупроводникового лидера, привлек к проекту французских специалистов из исследовательского института Leti. Эта коллаборация, по мнению аналитиков, может кардинально изменить расстановку сил на мировом рынке чипов к началу следующего десятилетия, когда планируется освоить выпуск 1-нм компонентов.
Французский след в японском техпрорыве
Сотрудничество выходит далеко за рамки формального обмена опытом. Уже в 2024 году инженеры Leti и Rapidus начнут ротацию кадров, отправляя специалистов в долгосрочные командировки. Речь идет не просто о консультациях — французская сторона передает наработки в области передовой литографии и материаловедения, которые критически важны для перехода на 1-нм техпроцесс. По предварительным оценкам, такой переход обеспечит прирост производительности и энергоэффективности чипов на 10–20%, что является существенным скачком для индустрии. К проекту также подключились американская IBM и бельгийская Imec, создавая, по сути, международный альянс по возвращению Японии в высшую лигу производителей микросхем.
Дорожная карта: от 40 нм к 1 нм за пять лет
Текущий разрыв в технологиях выглядит драматично: на данный момент на территории Японии серийно выпускаются чипы не новее 40-нм. Однако план амбициозен. Rapidus уже в 2025 году намерен запустить опытную линию по производству 2-нм чипов, а к 2027 году выйти на серийный выпуск этой топологии. Параллельно, опираясь на поддержку зарубежных партнеров, консорциум прорабатывает инфраструктуру для 1-нм техпроцесса, который должен стать коммерчески доступным в начале 2030-х годов. Ключевую роль в этом играет исследовательский центр LSTC, созданный в прошлом году при участии ведущих японских университетов. Именно LSTC в октябре подписал базовое соглашение с Leti, которое теперь переросло в полноценную инженерную кооперацию.
Финансирование проекта также говорит о масштабе намерений. Консорциум инвесторов вложил в капитал Rapidus $48,5 млн, однако государственные субсидии на освоение 2-нм технологии составят беспрецедентные $2,2 млрд. Эти средства пойдут не только на закупку оборудования, но и на адаптацию зарубежных технологий под японские производственные стандарты.
Долгое время японская полупроводниковая промышленность, некогда доминировавшая на рынке, уступала позиции азиатским и американским гигантам из-за консервативной модели развития и недостатка инвестиций в передовые литографические нормы. Создание Rapidus в августе прошлого года стало попыткой государства и бизнеса исправить этот перекос, сделав ставку на прорывные технологии и международное партнерство.
Успех проекта Rapidus способен не только решить проблему технологического суверенитета Японии, но и создать новый центр компетенций за пределами Тайваня и Южной Кореи. Если планы по 1-нм техпроцессу будут реализованы в заявленные сроки, это приведет к перераспределению контрактов на производство чипов для ИИ и высокопроизводительных вычислений. Однако главным риском остается скорость внедрения: пока конкуренты (TSMC и Samsung) осваивают 2-нм и 3-нм топологии в промышленных масштабах, японскому консорциуму предстоит пройти путь от лабораторных образцов до рентабельного массового производства за рекордно короткий срок.
