В России появится собственный 90-нанометровый литограф

Почему 90-нм литограф в России — это не шаг назад, а трезвый расчет

В этом году Минпромторг объявил о старте разработки отечественного литографа под 90-нанометровые чипы. Многие скривились: «90 нм? Это же прошлый век!» А зря.

Я как редактор, который 15 лет следит за микроэлектроникой, скажу прямо: для России 90 нм — это не отсталость, а единственный реалистичный горизонт. И сейчас объясню почему.

Кому вообще нужны такие «толстые» чипы?

Смартфоны и процессоры для ПК действительно требуют 7–5 нм. Но есть огромный пласт электроники, где 90 нм — это потолок. Автомобильные контроллеры, промышленные датчики, военная электроника, чипы для базовых станций. Там важна не плотность транзисторов, а радиационная стойкость, температурный диапазон и срок службы в 20–30 лет.

Пример: контроллеры системы ABS в машинах до сих пор часто делают на 130–90 нм. И менять их на что-то тоньше просто невыгодно — дороже лицензии, меньше надёжность.

Личное наблюдение: недавно разбирал старый промышленный частотный преобразователь — внутри стояла микросхема на 350 нм, и он работал исправно с 2005 года. Для «умной» лампочки с Wi-Fi такое не нужно, но для насоса на заводе — в самый раз.

Как будут делать 90-нм литограф?

Исполнителя выберут по конкурсу. Самый вероятный кандидат — Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ). У них уже есть опыт: совместно с белорусским «Планаром» они делают 350-нм и 130-нм установки. Осенью 2024 года обещают завершить 130-нм литограф.

Логика простая: берём существующую 350-нм платформу, заменяем оптику, подтягиваем механику прецизионности — получаем 90 нм. По оценке отраслевых аналитиков, на это уйдёт до четырёх лет и несколько сотен миллионов долларов.

Главные проблемы — не в «железе»

Сложности с самой установкой решаемы. Хуже с оптикой. Для 90 нм нужна оптика с числовой апертурой не ниже 0,6–0,7. В России такие объективы не производят. Придётся либо закупать в Китае (с ними есть кооперация), либо разрабатывать самим — а это +2 года и +30% бюджета.

Вторая проблема — фотошаблоны. Для 90 нм шаблоны делают на электронно-лучевых установках. Серийно их у нас нет. Но для мелких партий (а они и нужны) можно использовать то, что есть в ЗНТЦ и НИИ Точной механики.

Пошаговый совет: как понять, подойдёт ли 90 нм для вашего продукта

• Шаг 1. Определите требования к производительности. Если нужна частота выше 1 ГГц — 90 нм не хватит.
• Шаг 2. Оцените объём партии. Для тысяч штук в год — 90 нм оптимально, для миллионов — лучше заказывать на тайваньских фабриках.
• Шаг 3. Проверьте условия эксплуатации. 90 нм чипы терпят нагрев до +150 °C, чего не скажешь о тонких техпроцессах.

Кстати, про бюджеты. Сотни миллионов долларов — это не «распил». Для примера: покупка одного современного ASML-сканера под 7 нм стоит около $300 млн. А тут — вся линейка под 90 нм, да ещё и с передачей технологии. Дешевле и стратегически вернее.

Мнение автора: вместо того чтобы пытаться догнать Samsung и TSMC (что бессмысленно без доступа к EUV-литографии), мы делаем ставку на нишу, где будем востребованы ещё 10–15 лет. Это не патриотический лозунг — это нормальный бизнес-план.

Главный риск — кадры. В ЗНТЦ уже жалуются, что одновременно вести 130-нм и 90-нм проекты сложно. Специалистов по литографии в стране — единицы. Поэтому отставание по срокам в 1–2 года я считаю неизбежным.

Но в целом — движение в правильную сторону. Лучше получить работающий 90-нм литограф в 2028 году, чем ещё 10 лет мечтать о квантовых компьютерах.