Intel расширит Орегонский опытный завод — там будут обкатывать перспективные техпроцессы
Полупроводниковый гигант Intel совершает стратегический рывок, делая ставку на возвращение технологического суверенитета США. В то время как отрасль лихорадит из-за глобального дефицита чипов и геополитических рисков, компания объявила о масштабном расширении своего исследовательского хаба в Орегоне. Этот шаг — не просто наращивание мощностей, а попытка закрепить за собой статус единственного национального разработчика, способного контролировать всю цепочку создания передовой литографии на американской земле. Реализация проекта, по оценкам самой корпорации, создаст тысячи рабочих мест и укрепит экономику штата, где Intel уже обеспечивает 4% занятости населения и ежегодно генерирует $19,3 млрд валового продукта.
Новый техпроцесс и ставка на уникальное оборудование
Ключевым элементом планов является установка до конца текущего года первого в истории Intel литографического сканера ASML, работающего со сверхжестким ультрафиолетовым излучением с высокой числовой апертурой (High-NA EUV). Это оборудование, которое пока существует в единичных экземплярах, предназначено для отработки технологии Intel 18A. Вопреки ожиданиям, на начальном этапе оно будет использоваться в экспериментальном режиме и не станет обязательным для массового выпуска этих чипов. Однако компания рассматривает High-NA как фундамент для будущих поколений литографии, планируя внедрить его в серию на следующих этапах.
Гонка за лидерство к 2025 году
Расширение в Орегоне напрямую связано с амбициозным курсом генерального директора Патрика Гелсингера: освоить пять новых техпроцессов за четыре года. Исследовательские центры в технопарке имени Гордона Мура играют роль «мозгового центра», где инженеры пытаются предопределить развитие отрасли на десятилетие вперед. Именно здесь, в стенах завода D1X в Хиллсборо, куется будущее технологического лидерства. Компания уже подала заявки на строительство четвертой фазы этого гигантского комплекса, и земляные работы могут стартовать уже в 2024 году. В успехе этого предприятия кроется ответ на вопрос, сможет ли Intel догнать и перегнать азиатских конкурентов, таких как TSMC.
Финансирование проекта — сложная комбинация из собственных средств корпорации, муниципальных льгот и ожидаемых федеральных субсидий по «Закону о чипах» (CHIPS Act). Несмотря на то, что заявка на господдержку уже подана, процедура выделения средств затягивается. Intel рассчитывает на инъекцию в несколько миллиардов долларов, которые пойдут не только на Орегон, но и на строительство новых заводов в Аризоне, Огайо, а также в Европе — от Германии и Ирландии до Польши и Израиля.
Стоит напомнить, что текущее доминирование Intel в Орегоне уже впечатляет: местные поставщики заработали на сотрудничестве с корпорацией более $4 млрд в прошлом году, а совокупный годовой доход сотрудников компании в регионе достигает $10 млрд. Расширение присутствия здесь — это не просто бизнес, а элемент национальной стратегии по возвращению критически важных производств на родину.
Решение Intel инвестировать в High-NA EUV и наращивать R&D-мощности именно в США — это сигнал рынку. В условиях, когда Китай активно скупает «старое» литографическое оборудование, а Брюссель и Вашингтон субсидируют свои производства, борьба за каждый новый техпроцесс переходит в разряд геополитических. Если Intel удастся выполнить обещание и вернуть себе лидерство к 2025 году, это не только укрепит позиции компании, но и кардинально изменит баланс сил в мировой микроэлектронике, снизив зависимость Запада от азиатских фабрик.
