Китайские чипмейкеры импортозаместили почти половину используемого оборудования
Санкции как катализатор импортозамещения
Долгое время китайские фабрики предпочитали импортное литографическое оборудование, закупая местные разработки лишь для тестовых линий. Однако сейчас, под угрозой полной блокировки поставок, логика сменилась: если существует китайский аналог любого узла или станка, он закупается немедленно, даже в ущерб производительности. Как отмечают представители отрасли, главная цель — исключить любые риски, связанные с прекращением сервиса или поставок запчастей из-за рубежа.
По данным CINNO Research, выручка десяти крупнейших поставщиков полупроводникового оборудования в КНР в первом полугодии подскочила на 39% (до $2,2 млрд). Первое время китайские компании пытались диверсифицировать риски, наращивая закупки в Японии и Нидерландах, но по мере того, как союзники США консолидируют санкционные режимы, этот канал также сужается.
Прорыв в травлении и «ахиллесова пята» литографии
Китайские вендоры действительно прогрессируют. Например, оборудование для травления кремниевых пластин от AMEC уже задействовано в производстве продукции по 5-нм техпроцессу. Локальные эксперты признают: темпы развития местной техники опережают прогнозы примерно на два года. Однако слабым звеном остается оптическая литография. За восемь месяцев текущего года лишь один конкурс на поставку литографических сканеров выиграла китайская компания. Парадокс в том, что импорт голландского оборудования (прежде всего от ASML) за тот же период вырос на 81,2%, достигнув $3,3 млрд. В третьем квартале поставки ASML в Китай формировали до половины всей выручки нидерландского гиганта.
Ранее считалось, что китайская SMIC смогла освоить 5-нм техпроцесс для процессоров HiSilicon Kirin 9000S (используемых в смартфонах Huawei Mate 60) именно за счет хитроумного применения DUV-оборудования ASML, а не передовых EUV-сканеров, которые Пекину недоступны с 2019 года. Некоторые источники полагают, что небольшой запас EUV-машин SMIC успела сделать до введения голландских ограничений. В любом случае, создание полноценного отечественного аналога EUV-литографии, по оценкам специалистов, потребует еще нескольких лет напряженной работы.
Гонка за технологический суверенитет обостряется с каждым новым раундом санкций. Китайские компании уже доказали, что способны быстро замещать значительную часть импортного парка, но ключевой элемент — передовая литография — пока остается зоной критической зависимости. Пока ASML продолжает поставлять в КНР устаревающие DUV-системы, Пекин выигрывает время для собственных R&D-проектов. Однако, как только европейские и японские регуляторы закроют и эти лазейки, китайской полупроводниковой индустрии придется доказывать, что она способна на самостоятельный рывок, а не только на догоняющее копирование.














