На днях представители нидерландской компании ASML — лидера в производстве сканеров для литографического производства чипов — сообщили, что экспортная лицензия необходима только для поставки в Китай сканеров EUV. Сканеры DUV (193 нм) и другое оборудование не требуют лицензии и продолжат поставляться в страну. Этого будет достаточно, чтобы развернуть в Китае выпуск 7-нм и даже 5-нм полупроводников.
В частности, на состоявшейся недавно в Китае выставке China Import Expo компания ASML развернула собственный стенд, где показала передовое оборудование для производства чипов со сканерами с длиной волны 193 нм. Речь идёт об устройстве по выравниванию масок, которое необходимо для высокоточного позиционирования фотошаблонов в процессе изготовления слоёв микросхем. От точности позиционирования зависит уровень брака. Чем точнее совмещён фотошаблон с кремниевой пластиной, тем выше уровень выхода годной продукции.
Современные сканеры DUV, пусть и за счёт большего числа проходов, способны заменить сканеры EUV на процессах вплоть до 5 нм. Очевидно, что это потребует намного большего количества масок (фотошаблонов) и операций по их выравниванию. Поэтому выравниватели масок начинают играть всё возрастающую роль в период запретов ввоза в Китай более совершенных сканеров EUV. К счастью для Китая, всё что связано с предыдущими технологиями производства микросхем всё ещё разрешено для ввоза. В качестве резервного варианта в Китае разрабатывают собственное оборудование для литографической проекции в диапазоне DUV.
Подпишись: