США пытаются добиться отставания Китая в области литографии на пять поколений техпроцессов
Амбиции США закрепить за Китаем роль «вечного догоняющего» в производстве чипов проваливаются, не успев оформиться в полноценную стратегию. Жесткие экспортные ограничения, которые Вашингтон вводит с 2019 года, не только не остановили развитие полупроводниковой отрасли КНР, но и спровоцировали обратный эффект — ускоренную мобилизацию внутренних ресурсов и технологический рывок. К такому выводу приходят сами китайские производители, чьи заявления прозвучали на фоне отраслевой конференции на уходящей неделе.
«Пять поколений позади»: истинная цена санкций
Генеральный директор и председатель совета директоров компании AMEC (Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc.) Джеральд Инь Чжияо в ходе дискуссии раскрыл, какую именно цель преследует Вашингтон. По его словам, октябрьские ограничения 2023 года окончательно сняли маски: США стремятся законсервировать китайскую литографию на уровне 28-нанометрового техпроцесса. Это означает, что Поднебесная должна оказаться минимум на пять поколений позади передовых мировых стандартов, которые сегодня варьируются от 14 нм до 3 нм.
«Октябрьские экспортные ограничения раскрыли истинные намерения США, которые стремятся задержать литографию в Китае на уровне 28-нм техпроцесса, по меньшей мере на пять поколений позади передового мирового диапазона», — заявил господин Инь Чжияо. Он подчеркнул, что китайские производители оборудования с таким положением дел мириться не намерены.
85% зависимости: ахиллесова пята отрасли
Ключевая уязвимость китайской полупроводниковой индустрии — колоссальная зависимость от импортных станков. Как пояснил глава AMEC, местные предприятия по выпуску чипов полагаются на отечественное оборудование лишь на 15%. Оставшиеся 85% поставляются из США, Японии и Нидерландов. Именно эта диспропорция сделала возможным столь мощное санкционное давление.
Вашингтон, осознав эффективность такого рычага, начал активно склонять к синхронизации усилий своих союзников в Токио и Гааге. Последним шагом в этой цепи стал подписанный президентом США указ об ограничении инвестиций в три ключевые отрасли китайской экономики, который стал уже 16-м по счёту ограничительным актом с американской стороны.
Кадровый ресурс как фактор прорыва
Несмотря на мрачную статистику, настроения в отрасли далеки от пессимистичных. Джеральд Инь Чжияо убежден, что Западу не удастся сдержать прогресс Китая за счет блокирования поставок. Главным козырем в этой борьбе он видит человеческий капитал. По его мнению, специалисты с опытом работы в зарубежных корпорациях, которые после введения санкций вернулись на родину, станут катализатором процесса импортозамещения.
Примечательно, что сама компания AMEC в 2021 году уже попадала в «черный список» Пентагона по подозрению в сотрудничестве с оборонным комплексом КНР. Однако четыре месяца напряженных переговоров позволили снять эти обвинения, что демонстрирует сложную игру на грани дипломатии и промышленного шпионажа, в которую вовлечены обе стороны.
Санкционное давление на Китай в сфере высоких технологий началось задолго до октября 2023 года. Первые ограничения против конкретных компаний были введены еще в 2019 году. Однако именно ужесточение экспортного контроля в отношении контрактных производителей чипов стало наиболее болезненным ударом. Вашингтон последовательно расширяет список запрещенных к поставке технологий, стремясь перекрыть Пекину доступ к самым передовым литографическим сканерам, необходимым для выпуска процессоров по нормам менее 7 нм.
Попытка изолировать Китай от глобальной цепочки поставок полупроводникового оборудования имеет двойственное значение. С одной стороны, она действительно замедляет темпы модернизации китайских фабрик в краткосрочной перспективе. С другой — стимулирует беспрецедентный рост инвестиций в собственные НИОКР. Если Китаю удастся преодолеть технологический разрыв в литографии, это не только лишит США одного из главных рычагов влияния, но и создаст прямого конкурента для ASML, Nikon и Canon. На данный момент ставки в этой гонке настолько высоки, что исход противостояния определит архитектуру глобальной микроэлектронной промышленности на ближайшие десятилетия.
