Российский 350-нм фотолитограф готов к массовому производству

Изображение: ГК «Элемент»

В ходе мероприятия «Микроэлектроника 2025» представители Зеленоградского нанотехнологического центра и компании «Отраслевые решения», включенной в структуру «Элемента», заключили соглашение о поставке первого отечественного фотолитографа, рассчитанного на 350-нм техпроцесс. В договоре прописаны поставка самого оборудования и его монтаж с последующей пусконаладкой.

Фотолитограф, созданный в ЗНТЦ, способен выполнять проекционный перенос схемы с подготовленного фотошаблона на полупроводниковую пластину, а также его мультипликации с нормой топологии 350 нм. Практически весь этап разработки шел в плотном сотрудничестве с белорусским предприятием «Планар».

Как уточнил гендиректор ЗНТЦ Анатолий Ковалев, специалисты компании завершили разработку оборудования с разрешением 350 нм, все расчетные параметры его работы проверены в производственных условиях и в настоящее время идет подготовка к массовому выпуску.

Это серьезный шаг для российского литографического оборудования, позволяющий перейти к созданию полностью отечественной установки с более тонкими 90-нм технологическими нормами.