Нидерланды и США ужесточат ограничения на поставки оборудования для выпуска чипов в Китай
Скоординированный удар по полупроводниковой промышленности Китая, который готовят США и Нидерланды, рискует не просто замедлить развитие китайских техпроцессов, а окончательно зафиксировать технологический разрыв между Западом и Поднебесной на уровне «зрелых» чипов. Ожидается, что новые ограничения на экспорт литографического оборудования ASML, включая системы DUV, будут введены уже в сентябре 2023 года, а Штаты ужесточат правила «иностранного происхождения» компонентов.
Двойной прессинг: от EUV к DUV-литографии
Нидерланды, опережая американские санкции прошлого года, фактически с 2019 года блокируют поставки в КНР самых передовых EUV-сканеров. Однако новый пакет мер идет дальше. Как стало известно из информированных источников, Гаага готова расширить запрет на оборудование для глубокого ультрафиолета (DUV), которое используется для выпуска чипов по более зрелым, но все еще востребованным техпроцессам (от 28 нм и старше). Параллельно Вашингтон намерен пересмотреть порог содержания американских технологий в импортируемом в Китай оборудовании, что автоматически подведет под ограничения практически всех мировых поставщиков.
Сентябрьский рубеж и «черный список»
Новые правила со стороны США могут быть обнародованы уже в конце июля, а их юридическая сила вступит в действие к сентябрю. К этому же сроку будут синхронизированы и новые нидерландские запреты. Ключевым элементом станет публикация обновленного перечня из примерно шести китайских компаний, для которых получение экспортной лицензии станет практически невозможным. В этот список с высокой вероятностью попадет SMIC — крупнейший контрактный производитель чипов в КНР, который уже сталкивается с ограничениями на поставку оборудования для 7-нм техпроцесса.
Под ударом может оказаться не только ASML. Американские чиновники рассматривают возможность расширения санкций на нидерландскую компанию ASM International, специализирующуюся на критически важных процессах атомно-слоевого осаждения (ALD) и нанесения покрытий на кремниевые пластины. Если эти меры будут приняты, китайские фабрики потеряют доступ к технологиям, необходимым для производства даже относительно простых микросхем.
Запрет на оборудование для DUV-литографии — это удар по способности Китая наращивать объемы выпуска чипов для автомобильной электроники, промышленной автоматизации и бытовой техники. Именно эти сектора сейчас испытывают наибольший дефицит полупроводников. Лишившись доступа к проверенным сканерам ASML, китайские компании будут вынуждены либо консервировать устаревшие линии, либо полагаться на собственные разработки, которые пока значительно отстают по производительности и надежности.
Предыдущие раунды ограничений, введенные США в октябре 2022 года, уже нанесли урон китайской полупроводниковой отрасли, лишив ее доступа к оборудованию для выпуска чипов по нормам менее 14 нм. Новые меры, однако, направлены на то, чтобы перекрыть кислород и на «зрелых» этапах производства. По сути, Запад формирует два параллельных технологических мира: один — с доступом к передовым литографическим системам, второй — вынужденный довольствоваться морально устаревшими мощностями. Это не просто замедление, это попытка на десятилетия законсервировать технологическое отставание китайской полупроводниковой индустрии, лишив ее возможности обслуживать даже внутренний рынок без оглядки на западные санкции.
