Первый российский серийный литограф для производства 350-нм чипов поставят в декабре 2026 года
Первая отечественная литографическая установка, способная выпускать чипы по технологическим нормам 350 нанометров, отправится к заказчикам в декабре 2026 года. Это событие закрывает давнюю брешь в российской микроэлектронной цепочке: без собственного литографа любая программа импортозамещения в отрасли оставалась набором благих пожеланий. Теперь речь идет о конкретном оборудовании с конкретными сроками и ценой.
Первый экземпляр получит компания «Маппер», интегрированная в холдинг «Швабе». Второй достанется фирме «Отраслевые решения», входящей в группу «Элемент». Разработкой установки занимались Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) совместно с белорусским «Планаром» — кооперация, которая уже не первый год связывает российскую и белорусскую электронные школы.
Технические параметры машины выглядят скромно на фоне мировых лидеров, но для своего сегмента они вполне рабочие. Установка обрабатывает пластины диаметром до 200 миллиметров. Производительность — 63 пластины на 150 мм или 43 пластины на 200 мм в час. Этого достаточно для выпуска силовой и автомобильной электроники, а также компонентов для промышленного оборудования. Именно такие чипы сегодня критически важны для автопрома, энергетики и станкостроения — отраслей, где 350-нм нормы остаются востребованными и не требуют экстремально тонких техпроцессов.
Ценовая политика выглядит одним из главных аргументов в пользу отечественного литографа. Базовая конфигурация стоит 392 миллиона рублей без НДС. Версия с расширенным сервисом и пятилетней гарантией обойдется в 561 миллион рублей — и это, по оценкам разработчиков, до 60 процентов дешевле сопоставимых зарубежных аналогов. На изготовление одной установки уходит около 18 месяцев с момента внесения 50-процентной предоплаты. Иными словами, заказчикам придется запастись терпением, но альтернатива в виде ожидания экспортных поставок сегодня выглядит куда менее предсказуемой.
На 350 нанометрах разработчики останавливаться не собираются. Следующий шаг — серийный литограф под нормы 130 нм. Прототип этой установки уже продемонстрировали в августе 2026 года, а затраты на опытно-конструкторские работы оцениваются в 5,7 миллиарда рублей. Запуск в серию запланирован на 2027 год. Переход от 350 к 130 нм — это не просто улучшение характеристик, а выход на другой рынок: такие чипы используются в более сложной потребительской и телекоммуникационной электронике.
Пока рано говорить о том, что Россия догоняет мировых производителей литографов. Но появление серийной машины, пусть и в начальном сегменте, меняет саму логику отрасли. Вместо бесконечных разговоров о технологическом суверенитете появляется железо, которое можно потрогать, посчитать и запустить в производство. Вопрос теперь в том, насколько быстро удастся наладить выпуск и не сорвутся ли сроки, которые в микроэлектронике традиционно любят сдвигаться вправо.
