SiCarrier пообещала Китаю суверенные машины для производства 5-нм чипов без EUV

Китайские производители чипов нашли технологический обходной путь, позволяющий выпускать передовые полупроводники на собственных мощностях, невзирая на жесткие санкции США, блокирующие поставки западного литографического оборудования. Речь идет не о прорыве, а о сложной и дорогостоящей альтернативе, которая, однако, дает Пекину шанс сохранить темпы развития собственной полупроводниковой индустрии.

Нетехнологический ответ на технологическую блокаду

В условиях, когда доступ к голландским литографическим системам на сверхжестком ультрафиолете (EUV) от ASML полностью закрыт, китайские инженеры делают ставку на так называемое многопроходное формирование рисунка (multi-patterning). Президент компании Shenzhen SiCarrier Industry Machines Ду Лицзюнь на выставке Semicon China прямо заявил: отказ от оптической литографии в пользу комбинации процессов травления и осаждения позволяет решать задачи, которые ранее считались прерогативой EUV-оборудования.

Цена независимости: рост этапов и снижение выхода

Ключевая идея заключается в использовании доступного Китаю оборудования глубокого ультрафиолета (DUV) для создания структур, соответствующих нормам 5-нанометрового техпроцесса. Однако, как признает Ду Лицзюнь, эта стратегия имеет серьезный недостаток. При переходе с 7 нм на 5 нм количество технологических этапов возрастает на 20%, что неизбежно ведет к снижению процента выхода годных кристаллов. Несмотря на это, в компании подчеркивают: «Лучше иметь мало чипов, чем вообще не иметь».

SiCarrier уже продемонстрировала на выставке широкую линейку собственного оборудования для травления, осаждения и контроля. Стенд компании стал одним из самых посещаемых на фоне растущего интереса к китайским технологиям импортозамещения. В 2023 году SiCarrier зарегистрировала в Китае патент на технологию, предполагающую четырехкратное экспонирование на DUV-сканерах, что позволяет получать компоненты, сопоставимые по характеристикам с 5-нм продуктами, выпускаемыми на EUV.

Основанная в 2021 году при поддержке государственного инвестиционного фонда Шэньчжэня, SiCarrier быстро стала ключевым игроком. Ее оборудование уже используется китайским гигантом Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), а также компанией Huawei. Сам факт включения дочерней структуры SiCarrier Industry Machines в черный список Минторга США в 2024 году лишь подтверждает, что разработки компании представляют реальную угрозу для американской технологической блокады.

Ранее Китай был вынужден смириться с потерей доступа к самым передовым литографическим системам. Однако именно это давление стимулировало ускоренное развитие национальных производителей. Патентная активность SiCarrier и интеграция ее решений в производственные цепочки SMIC и Huawei свидетельствуют о формировании в Китае полноценной экосистемы альтернативных технологий.

Успех многопроходного формирования рисунка не отменяет фундаментального отставания в производительности и экономической эффективности. Однако он создает прецедент: даже без доступа к EUV Китай способен поддерживать собственное производство передовых чипов. Это означает, что санкции замедляют, но не останавливают прогресс. Для глобального рынка полупроводников это сигнал о появлении новой, пусть и менее эффективной, но самостоятельной производственной базы, способной со временем изменить баланс сил в отрасли.