Лента новостей

10:39
Страна (Украина): «НАТО за нас воевать не будет». Хотят ли киевляне видеть Украину в военном альянсе. Опрос «Страны»
10:38
Causeur (Франция): Солженицын и мы
10:37
Страна (Украина): поставки взрывчатки увеличились в 1,5 раза. Почему пошла в рост торговля Украины с Россией
10:36
Читатели Fox News о заморозке военной помощи Украине: это расплата за увольнение Хантера?
10:35
Al Jazeera (Катар): как отреагирует организм, если на месяц отказаться от хлеба
10:33
Исследование банка Русский стандарт: россияне стали больше тратить на здоровье
10:31
Американцы раскритиковали Байдена из-за сообщений о приостановке военной помощи Украине
10:30
Полиция проводит обыски в центральном штабе блока Армения в Сисиане
10:29
В Филадельфии произошли два случая стрельбы со смертельным исходом за сутки
10:28
Лидер блока Честь имею Артур Ванецян проголосовал на внеочередных выборах в парламент Армении
10:16
Во Франции назвали НАТО рычагом США для управления союзниками
09:53
Роскосмос планирует открыть потребительский центр ГЛОНАСС через 10 лет
09:51
Недодозировка и передозировка американской свободы
09:37
Названы два неожиданных фактора, которые влияют на похудение
09:36
ТАСС: Российский посол вылетает в США
09:35
Медики рассказали, какие продукты провоцируют артрит
09:34
К Земле несется огромный астероид
09:31
В России разработан аппарат для захвата внеземных нанообъектов и их доставки на Землю
09:25
Слуцкий предложит своему коллеге в Конгрессе США возобновить межпарламентский диалог
09:24
Владимир Уйба возглавил территориальную группу списка кандидатов от ЕР на выборы в Госдуму
09:12
Российские Ту-95 разоряют бюджет США
09:01
Newsweek Polska (Польша): Сталин, КГБ и четыре империи на службе Кремля
08:59
Нашли солдат, сцепившихся в рукопашной. Пулеметчик дивизии СС Викинг и красноармеец со штыком в руке. Как они погибли? (2021)
08:58
Что сделали военные с шестью Шерманами поднятыми со дна Баренцева моря? (2021)
08:48
Европа подсела на российские товары: как страна наращивает экспорт
08:47
Кремль назвал дату прямой линии Путина с россиянами
08:46
Спецпредставитель президента заявил, что сети 6G вряд ли появятся в мире в ближайшие пять лет
08:44
Стриптизерши попробуют националистов: это изменит судьбу Франции
08:43
Президент Республики Армения Армен Саркисян проголосовал на внеочередных выборах в парламент
08:42
Хакеры группы Anonymous пригрозили главе Национального жюри по выборам публикацией компромата
08:41
Метеоролог Каллианос предупредил о 40-градусной жаре в Греции и африканской пыли
08:22
Антонов должен вернуться в посольство РФ в Вашингтоне 21 июня
07:52
Британские ученые: Еще одно опасное последствие коронавируса — разрушение мозга
07:51
Медики назвали неочевидные симптомы высокого уровня холестерина в организме
07:50
МИД Украины: Черное море «полно угроз» из-за России
07:49
Названы два неожиданных фактора, влияющих на похудение
07:46
Усилитель руля с прогрессивной характеристикой появится на электромобилях Tesla лишь через несколько лет
07:41
Кабмин выделит Роспотребнадзору 321,3 млн рублей на изучение популяционного иммунитета
07:40
В ОНФ поддержали выдвижение в Госдуму Проценко
07:28
Валентина Лисица: На Западе вообще ничего не хотят знать о Донбассе
07:05
В Польше заявили, что беспилотники Bayraktar TB2 позволят укрепить восточные границы НАТО
07:04
Сенатор Алексей Пушков сравнил Путина во время саммита в Женеве с Джеймсом Бондом
06:52
NI рассказал о готовности США оставить Украину без НАТО ради России и Китая
06:10
В Калининграде состоялся 58-й выпуск офицеров Военно-Морского флота
06:09
В Михайловской военной артиллерийской академии, проведена торжественная церемония, посвященная 191 выпуску офицеров
Все новости

Архив публикаций



Мировое обозрение»Технологии»По вине ASML внедрение следующего поколения EUV-литографии задержится на три года

По вине ASML внедрение следующего поколения EUV-литографии задержится на три года


Литография со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) обеспечила возможность уменьшения транзисторов на полупроводниковых чипах без дальнейшего увеличения количества фотошаблонов. Её внедрение задержалось на несколько лет относительно первоначальных сроков, но теперь становится ясно, что и EUV-литография следующего поколения тоже задержится.

Источник изображения: ASML

Источник изображения: ASML

Как отмечает один из постоянных авторов Seeking Alpha Арнэ Верхайде (Arne Verheyde), компании TSMC и Samsung начали применять литографию со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением относительно недавно, по мере освоения 7-нм и 5-нм технологий, об аналогичных планах заявила и компания Intel, хотя первоначально считалось, что данный переход начнётся ещё в рамках 32-нм технологии. Длина волны лазера, используемая в литографии, долгие годы составляла 193 нм (DUV), а в рамках EUV-литографии она должна была сократиться до 13,5 нм. Поскольку переход от DUV к EUV затянулся, производители чипов вынуждены были сперва внедрить так называемую иммерсионную литографию, которая позволила увеличить показатель преломления с 1,0 до 1,35, а затем добиваться уменьшения размеров транзисторов за счёт использования множества фотошаблонов. По мере роста их количества увеличивались и затраты, не говоря уже об уровне брака и самом удлинении производственного цикла.

В первой половине прошлого десятилетия Intel, TSMC и Samsung в качестве заинтересованных в скорейшем освоении EUV-литографии клиентов купили крупные пакеты акций ASML на несколько миллиардов долларов США. По иронии судьбы, потратившая больше всех компания Intel в итоге оказалась в числе догоняющих, поскольку переход на использование EUV-литографии она собирается осуществить в рамках серийного производства не ранее конца следующего года. Очевидно, что и другие клиенты ASML освоили EUV-литографию позже, чем рассчитывали изначально.

Следующим технологическим этапом должен стать переход на EUV-литографию с высоким значением коэффициента преломления (high-NA EUV). Дело в том, что уменьшение длины лазера с 193 до 13,5 нм в рамках миграции с DUV снизило значение коэффициента преломления с 1,35 до 0,35. Переход на следующую ступень в развитии EUV-литографии должен поднять этот показатель до 0,55. Это обеспечит дальнейшее уменьшение размеров транзисторов без чрезмерного увеличения количества фотошаблонов.

ASML, как отмечается, ещё на январской отчётной конференции заявила, что задерживается с внедрением новой версии EUV как минимум на три года. Ранее считалось, что технология будет освоена к 2023 году, а теперь внедрение версии EUV с высоким значением коэффициента преломления откладывается до 2025 или 2026 года. Отрасль уже пережила задержку с внедрением первого поколения EUV, поэтому и в этом случае она продолжит компенсировать отсутствие прогресса со стороны литографических сканеров увеличением количества фотошаблонов. Для конечных потребителей это будет означать, что стоимость освоения новых техпроцессов в литографии продолжит увеличиваться. Собственно, один сканер для работы с high-NA EUV будет стоить примерно $300 млн, но он позволит сократить затраты на оснастку и ускорить обработку кремниевых пластин. ASML в сложившихся условиях сможет заработать на продаже EUV-оборудования первого поколения. Только в этом году она собирается увеличить профильную выручку на 30 %.



Опубликовано: Мировое обозрение     Источник

Подпишись:





Напишите ваш комментарий к статье:

Информация
Посетители, находящиеся в группе Гости, не могут оставлять комментарии к данной публикации.

Новости партнеров

Наверх